技术编号：2793156
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对形成有感光膜的被处理基板局部地进行曝光处理的。背景技术例如，在FPD(平板显示器)的制造中，利用所谓的光刻工序来形成电路图案。在该光刻工序中，也如专利文献1所述那样，在玻璃基板等被处理基板上形成规定的膜之后，涂敷光致抗蚀剂(下面称为抗蚀剂)而形成抗蚀剂膜(感光膜)。然后，对应电路图案地曝光上述抗蚀剂，并对其进行显影处理，从而形成图案。另外，如图11的(a)所示，在这样的光刻工序中，能够使抗蚀剂图案R具有不同的膜厚(厚膜部Rl和薄膜部似)，并通过...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。