技术编号：2794151
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微纳加工，具体涉及一种复合光子筛投影式光刻系统。 背景技术当前集成电路制造工艺中普遍采用投影式光刻系统，即利用投影物镜将掩模板上的图形在衬底面上缩小成像，然后再结合其它工艺步骤实现图形的转移。现有的投影式光刻系统其核心结构如图1所示，由照明系统1、掩模板2、投影物镜3和衬底4构成。其中照明系统1位于系统最上方，用于产生高质量的入射光源。掩模板2位于照明系统1的下方， 用于提供投影物镜成像的物方。投影物镜3位于掩模板2的下方，用于实现成像功能。衬底...
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