曝光系统的制作方法技术资料下载

技术编号:2794458

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本发明与曝光系统有关,特别地,关系到一种安装在曝光系统内部用于制作液晶显示(LCD)装置的光源装置. 以下结合附图说明图1对采用光刻工艺制造LCD的一个曝光系统给予详细说明。如图1所示,在将要进行曝光处理的暗箱底部安装一个用于支撑LCD基板15的基座20。在基座20之上设置一个光掩膜25(或者一个分划板(reticle))并正对LCD基板15。其中,光掩膜25可以包括几个光阻模25a。数个灯光装置30设置在暗室10外表面的上部。灯光装置30包括一个光源3...
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