光刻用掩模及其制法和光刻设备与器件制法的制作方法技术资料下载

技术编号:2795153

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本发明涉及用在光刻投射设备中的掩模,其中的光刻投射设备包括用来提供投射辐射束的辐射系统;用来支撑一掩模的支撑结构,其中该掩模用以根据所需图案来对投射光束形成图案;用来固定一基底的基底台;和用来将形成图案的射束投射在基底靶部上的投射系统。背景技术 此处使用的术语“图案化装置”应当广义地理解为涉及能够使入射辐射束赋予带图案的截面的部件,其中所述图案与要在基底靶部上形成的图案一致,掩模是该“图案化装置”的一个实例;术语“光阀”也用于本文中。一般地,所述图案与在靶...
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