技术编号：2795995
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及高精度光学元件精密装调。 背景技术极紫外光刻技术是193nm(DUVL)光刻技术向13. 5nmEUV更短波段的合理延伸，最大限度的集成了传统光学光刻的发展成果。但是由于工作于波长更短的EUV波段，EUVL对非球面加工、面形检测、极紫外多层膜、物镜系统设计与系统波像差检测等技术提出了严峻的挑战。极紫外光刻系统要达到衍射极限分辨率的要求，系统波前偏差要小于λ/14，λ为波长，对于六镜系统而言单个反射面的面形要求达到0. 20nmrmso在如此极端苛...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。