技术编号：2796769
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及使用在主链上含有萘衍生物的树脂所形成的涂布型下层膜以及用于形成该涂布型下层膜的形成涂布型下层膜的组合物。 利用本发明的形成涂布型下层膜的组合物，可以不与涂布型下层膜的上层部发生混合，可以形成良好的光致抗蚀剂的图形形状。 可以对本发明的形成涂布型下层膜的组合物赋予有效地抑制从基板的反射的性能，也可以兼具作为防反射膜的效果。 利用本发明的形成涂布型下层膜的组合物，可以提供具有接近光致抗蚀剂的干蚀刻速度的选择比、低于光致抗蚀剂的干蚀刻速度的选择比、低于...
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