技术编号：2797683
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种整片晶圆纳米压印的装置，以实现光子晶体LED整片晶圆的 图形化，属微纳制造和光电子器件制造。背景技术纳米压印光刻(Nanoimprint Lithography, NIL)是一种全新微纳米图形化的方 法，它是一种使用模具通过抗蚀剂的受力变形实现其图形化的技术。与其它微纳米制造方 法相比，NIL具有高分辩率、超低成本(国际权威机构评估同等制作水平的OTL比传统光学 投影光刻至少低一个数量级)和高生产率的特点，尤其在大面积微纳米结构和复杂三维...
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