技术编号：2798139
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及投射曝光机的光学元件的减振器件。本发明还涉及一种光学元件，其用于投射曝光机的照明系统和投射系统，或用于以减振器件确切定位光学元件的系统。背景技术半导体光刻用投射曝光机用于半导体部件和其它精细结构器件的光刻生产。在该情况下，掩模(掩模母版)的图案被投射到通常涂覆有感光层的衬底(晶片)上。为此，投射曝光机包括投射物镜，该投射物镜具有多个光学元件，例如透镜、反射镜、光栅或平面平行板，它们经由底座支撑在投射物镜的物镜壳体中。光学元件使照明器件发出的电磁辐...
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