技术编号：2799175
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在LSI和超LSI等半导体器件或液晶显示板等的制造工序中，在曝光时安装于平版印刷·掩模上的薄膜(pellicle)及其掩模粘接剂，尤其涉及适合于通过双图案化(double patterning)来形成半导体元件的微细图案的薄膜及其掩模粘接剂。背景技术在LSI、超LSI等半导体器件或液晶显示板等的制造工序中，隔着掩模(也称为曝光原版或中间掩模)照射光，从而形成图案化。此时，若掩模上附着有异物，则光被异物吸收或改变方向。因此发生图案化变形或边缘粗糙，...
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