技术编号：2799338
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及例如可以用于通过光刻技术制造器件的检验方法和检验设备。本发明可以被应用例如检测由在通过光刻设备进行处理期间引起的半导体晶片上的处理缺陷。背景技术光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上、通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为“掩模”或“掩模版”的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或...
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