技术编号：2800994
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及电子和显示制造，特别是涉及一种掩膜版。背景技术目前，掩膜版被广泛应用于电子行业与显示行业，利用曝光设备将掩膜版上的图案投影在涂覆有感光材料(如光刻胶)的待曝光器件上，通过显影、刻蚀等工艺可以在待曝光器件上形成图案化膜层。如图1所示，一般通过在掩膜版7的透明的衬底I上形成图案化的遮光层2 (如铬遮光层)来实现曝光时的图形化遮挡。对于采用近接曝光形式的曝光过程，如液晶显示装置中彩色滤光片的生产，掩膜版7和涂有光刻胶4的待曝光器件3仅有250微米左...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。