技术编号：2802772
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光谱，具体涉及的平面闪耀全息光栅制作所使用的离子束刻蚀装置中调整栅线与离子束流垂直度的方法。背景技术离子束刻蚀装置是ー种常用的平面闪耀全息光栅制作装置，离子束流以垂直于光刻胶栅线方向，与光刻胶光栅基底成一定角度入射至基底表面，将基底上的正弦型光刻胶光栅槽形刻蚀转移至基底上，形成三角槽形闪耀全息光栅，其闪耀角等于束流的入射角。它的最大优点在于离子束流垂直于栅线方向，因此，只要调整基底与束流的夹角，即入射角，即可制作不同闪耀角的闪耀全息光柵。但是实际...
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