技术编号：2803242
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于激光，更具体地，涉及。背景技术光刻技术主要用于芯片制造，随着集成度的提高。所需的光刻线宽也要降低。对光刻光源提出了更高的要求，为了提高芯片的集成度，研究人员在寻找新一代的光刻光源。光刻的最小特征尺寸(Minimum Feature Size, MFS)是和衍射极限有关的。满足以下关系式= ;其中kl是与光刻工艺相关的常数，λ是曝光光源的波长，NA是光学系统的数值孔径。由该关系式可知，为了改善光刻最小特征尺寸有两种途径一种是增加光学系统的数值孔径，...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
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