技术编号：2803999
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种柔性面板连续无掩膜光刻方法及用于该方法的装置本发明涉及一种柔性面板连续无掩膜光刻方法，本发明还涉及一种无掩膜直写数字光刻技术。背景技术随着技术节点的不断缩小，掩膜版价格在芯片制造中的成本比重越来越不容小觑。以45nm掩膜版为例，其价格大约在600万美元上下，而一套22nm工艺的掩膜版成本预计在900到1440万美元。不断攀升的成本为研发带来了巨大的压力，也使得无掩膜光刻作为新兴的技术引起了人们的广泛关注。无掩膜光刻是一类不采用光刻掩膜版的光刻技术，即采...
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