技术编号：2804050
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于纳米加工，涉及一种。背景技术激光干涉光刻具有高分辨率、无掩模、长焦深、低成本、高效率等优点，广泛应用于周期性微纳结构的制作，在平板显示、高 密度存储、高精度测量传感以及太阳能电池抗反吸收等研究领域发挥着重要的作用。激光干涉光刻图形的周期是由相互干涉的两光束入射角决定的，因此，为了获得不同周期的微纳结构，必须调整激光干涉光刻系统中相互干涉的两光束的入射角。对于传统的分光镜分束、反射镜合束的双臂激光干涉光刻系统，要想改变两光束的入射角，必须分别调整两...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。