技术编号：2804495
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及新颖的光致抗蚀剂，特别是能涂敷成厚涂层并能成象的光致抗蚀剂。本发明优选的抗蚀剂是含有一种或多种光致生酸剂化合物和树脂成分的化学放大的正型抗蚀剂。背景技术 光致抗蚀剂是用于将图象转移到基体的光敏性薄膜。先在基体上形成光致抗蚀剂涂层，然后以活性辐射源通过光掩膜使光致抗蚀剂层曝光。光掩膜具有对活性辐射不透明的区域和对活性辐射透明的其余区域。在活性辐射下进行曝光可使光致抗蚀剂涂层发生光诱导化学变换，而将光掩膜图象转移到涂有光致抗蚀剂的基体上。曝光后，对光...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。