技术编号：2804541
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光致抗蚀剂用显影液。背景技术 近年来，提出使用在传统抗蚀剂中还有含环氧的物质的光致抗蚀剂以在WL-CSP的生产中获得更高性能。对于此光致抗蚀剂，必须使用碱性更强的显影剂，因为其在传统显影液中的溶解度较低。然而，如果碱性太强，则在形成pier[音译]的过程中出现咬边(undercut)的问题。因此，需要没有上述问题的显影液。发明内容本发明人发现利用无氟表面活性剂和含氟表面活性剂组合可解决上述问题。因此，本发明涉及一种光致抗蚀剂用显影液。所述显影液包...
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