光学干涉滤光片的制作方法技术资料下载

技术编号:2805500

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本发明涉及一种在玻璃基片上具有交替排列的第一低折射率层和第二高折射率层的光学干涉滤光片,其第一层基本上由非晶形二氧化硅构成,第二层是晶体层,基本上包括二氧化钛和另一种金属氧化物,这另一种金属氧化物选自ZrO2,HfO2和Ta2O5所属的一组化合物。在JP-A-59-184744中叙述了一种在玻璃基片上交替真空沉积由ZrO2和/或TiO2构成的高折射率层以及由SiO2和/或Al2O3构成的低折射率层的方法。在大约450℃,最好是650~700℃时的热处理,在...
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