技术编号：2806408
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种紫外光刻(曝光)机的技术改进方法，特别是用于接触/接近式大面积紫外均匀辐照光刻(曝光)的方法及其实现该方法的装置。有效均匀辐照面积与曝光均匀度是紫外光刻(曝光)机的两个重要技术指标。已有的紫外光刻(曝光)机因其用途不同，或者是曝光分辨率高而其有效均匀辐照面积较小，其等面积正方形对角线长度一般在6吋之内;或者是有较大的辐照面积而其曝光均匀度很差，其曝光不均匀度≥±10%。诸如上海光学机械厂生产的JKG型φ75光刻机、机械电子工业部第十三研究所研...
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