技术编号：2806938
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是一种旨在降低直拉硅单晶氧含量，提高硅红外滤光片透过率的硅片热处理工艺，属于半导体滤光片的加工方法。用半导体硅材料制造的7-14μm红外带通滤光片是很多红外仪器，例如红外报警器、红外探测器、红外传感器等所必需的元件。这种滤光片要求在上述红外光波段有高的透过率。一般用区熔硅单晶制造。这是因为直拉硅单晶的含氧量高，在9μm附近，有一强的氧吸收峰，导致该波段的透过率减小。美国BalzersOpticalCorporation在其出版的“Balzers”的技...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。