技术编号：2807930
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于EUV光刻的光学系统，其包含反射光学元件，该反射光学元件包括基底，该基底具有高反射涂层，在用EUV辐射照射该基底时，该基底发出二次电子；以及带电粒子的源，其布置为使得能够将带电粒子施加于反射光学元件。此外，本发明涉及一种用于EUV光刻的照明系统、一种用于EUV光刻的投射系统和具有这种光学系统的EUV光刻设备。背景技术在EUV光刻中，针对半导体元件的光刻处理，反射光学元件用于软X射线(softX-ray)至极紫外(EUV)波长范围(例如大约...
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