技术编号：2808291
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明属于纳米光刻，特别涉及一种纳米光刻对准系统。 背景技术 纳米器件是纳米科技的重要物质基础之一，纳米光刻技术是纳米器件研制的主要手段，其制作技术已成为当前世界科学研究急需解决的问题。目前以光学光刻为基础的大规模集成电路工业制造技术已经达到100nm的特征尺寸，并将193nmArF浸没式光刻技术延伸到32nm技术节点。从原理上讲光刻分辨力随着波长的大幅度缩短可以大大提高，但是波长变短同时也带来了技术上的难点和成本的剧增；尤其是在45nm以下的光刻设...
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