技术编号：2808847
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关一种干涉微影技术，尤其是指一种具有补偿曝光位置补偿的一种步进排列式干涉微影方法与系统。背景技术随着显示器面板，软性电子以及太阳能等产业在尺寸需求潜力渐增的情况下，未来势必需要更大面积且关键尺寸(Critical Dimension, CD)更小的周期性结构，目前大部分的产品其线宽均在微米等级，但可以预见的是未来的研究方向将会朝向次微米甚至纳米等级线宽的周期性微结构的制造。在这样的情况下，纳米级定位-稳定系统的重要性越来越高，尤有甚者，当欲以微影...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。