技术编号：2809013
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明主要地涉及如运用于制作微(miciO-)和纳米结构的光刻领域，并且它特别地涉及如运用于向衬底上的光敏层上传送掩模中定义的特征的周期图案的Talbot成像领域，并且更特别地涉及在一个维度中是周期性的图案的印刷。背景技术平版印刷(lithographic)制作实现表面上的微和纳米图案的形成。光刻(photolithographic)技术通过将光敏表面暴露于具有与所需图案对应的强度分布的光场来实现这一点。光敏表面通常是感光胶片的薄层，诸如光刻胶(photo...
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