技术编号：2809062
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及高分子化合物及包含其的用于液浸曝光工艺的抗蚀剂保护膜组合物。背景技术在半导体器件、液晶器件等各种电子器件的微细结构的制造中，广泛使用平版印刷法。但是，伴随着器件结构的微细化，要求平版印刷工序中的抗蚀剂图案的微细化。现在，根据平版印刷法，例如，最先端领域中，形成线宽为90nm程度的微细的抗蚀剂图案变为可能。但是，将来要求形成更加微细的图案。为了达到形成比90nm更微细的图案，曝光装置和对应于它的抗蚀剂的开发成为最重要的部分。对于曝光装置正在进行着F...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。