技术编号：2809257
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体制造装备，特别是一种嵌入式共基面二维平衡 双驱双工件台定位系统。 背景技术工件台技术是光刻机的物镜、对准、工件台三大核心技术之一。在光刻工 艺中，即将掩模上的图案转移到晶片上的过程当中，包括装片、预对准、对 准、曝光和卸片工序，这些工序都需要工件台的运动配合，尤其是曝光过程中， 无论是步进重复曝光还是步进扫描曝光，都对工件台移动定位的运动速度、平 稳性和精度提出了非常高的要求。所以，工件台运动速度的快慢、平稳性和定 位的精确性直接影响着生产...
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