技术编号：2809393
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明有关一种光学邻近修正的方法，特别是有关一种利用铬膜辅助图案的无铬膜相转移光罩。(2)背景技术在微影制程中，一种曝光能量，例如紫外光，是将图案穿透过光罩(mask orreticle)，并且将图案穿透至靶材上，其中靶材可以是硅芯片。一般而言，包含不透明及透两个区域的光罩形成在预先决定的图案上。曝光能量曝露形成在靶材上的光阻层的光罩图案。接着，对于正光阻而言是移除任何一个光阻上的曝光区域，对负光阻而言是将未曝光区域移除。光罩一般而言是包含透明平板如耐火二...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。