技术编号：2809681
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及包含重复图形的描绘工序的光掩模制造方法和光掩模，具体涉及包含精密的重复图形的灰调掩模制造方法和灰调掩模。背景技术 近年来，在大型LCD用掩模的领域中，正尝试利用灰调掩模减少掩模的个数(月刊FPD Intelligence 1999年5月)。这里，灰调掩模，如图10(1)所示，在具有遮光部1、全透射部2和灰调部3。灰调部3，例如是形成微细遮光图形3a的区域，其中，微细遮光图形3a的图形尺寸在使用灰调掩模的大型LCD用曝光机的分辨率界限以内，灰调部的...
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