技术编号：2809972
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明 [发明所属的]本发明涉及焦点监测用光掩模、焦点监测方法、焦点监测用装置及装置的制造方法。近年来，半导体集成电路的高集成化和微细化取得了惊人的发展。与之相伴随，在半导体衬底(以下，简称为晶片)上所形成的电路图形的微细化也取得了急剧的进展。其中，光刻技术作为图形形成的基本技术也得到广泛的认知。因此，迄今正在进行各种开发和改进。但是，图形的微细化是没有止境的，对提高图形分辨率的要求也正在进一步地增强。这种光刻技术是将光掩模(原图)上的图形复制到涂敷在晶...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。