技术编号：2811027
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光谱中涉及的一种全息光栅制作中实时监 测曝光量的方法。 背景技术在全息光栅制作工艺中，曝光量是需要控制的重要工艺参数之 一，曝光不足或过曝光都不能得到理想的光栅槽形。传统方法是使用 固定的曝光时间，通过制作大量样片，对曝光量进行反复修正，总结 出最佳工艺参数，然后把经验值用于后续曝光中。由于影响全息光栅 质量的工艺条件很多，所以这种研究方法实验工作量大、周期长，最 终还得不到质量好的全息光栅。与本发明最为接近的已有技术是中国专利号为CN14504...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。