技术编号：2811220
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般涉及ー种用于优化用于微光刻的照明源和掩模特征的方法和程序产品。背景技术光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，光刻掩模可包含对应于IC每ー层的电路图案，该图案可以成像在已涂敷辐射敏感材料(抗蚀剂)层的基底(硅片)的靶部上(例如包括一个或者多个电路小片(die))。一般地，単一的晶片将包含相邻靶部的整个网格，该相邻靶部由投影系统逐个相继辐射。在一类光刻投射装置中，通过一次曝光靶部上的全部掩模图案而辐射每ー靶部；这种装置通常称作晶片...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。