技术编号：2811224
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种基于系统Zernike波像差分析与光刻过程对于Zernike系数敏感性的，属于非球面光学设计。背景技术将非球面应用于成像光学系统，旨在提供更灵活的解空间以及更多的设计自由度，能够大幅提高系统光学性能，有效减小系统体积和重量。非球面在光刻物镜设计、头盔显示、手机相机镜头等像质要求高、结构要求紧密的系统中有着广泛应用。自变量的增加， 系统校正像差的能力得到加强，因此有可能获得更好的成像质量并简化系统。非球面在系统中的位置对于校正不同种类像差至关重...
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