技术编号：2811283
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是提供，尤指一种利用虚设图案以降低图案密度差异的光学接近修正方法。然而随着集成电路的图案被设计得越来越小，以及受到曝光机台(optical exposure tool)的分辨率极限(resolution limit)的影响，在对这些高密度排列的光罩图案进行曝光制程以进行图案转移时，便很容易产生光学接近效应(optical proximity effect，OPE)。例如直角转角圆形化(right-angled corner rounded)、直线末端...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。