技术编号：2811674
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光刻投射装置，包括 用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统。 用于向所述投射系统的最终元件和所述基底之间的空间提供浸没液 体的液体供给系统。背景技术这里使用的术语"构图部件"应广义地解释为能够给入射的辐射光 束赋予带图案截面的部件，其中所述图案与要在基底的靶部上形成的图 案一致；本文中也使用术语"光阀"。 一...
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