技术编号：2811696
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明总地涉及光刻方法和掩模装置，所述光刻方法和掩模装置用于特征场区(field of a feature)中光致抗蚀剂的多次曝光，例如在器件(诸如用 于f兹头的滑块)上i殳置标识号(identification number )。背景技术当在晶片衬底上制造器件时，例如包括^f兹头的滑块或其它微电子器件， 通常在每个这样的器件上生成标识号。过去，利用激光蚀刻技术将标识号写 在滑块的背侧。然而，由于滑块的激光编号(serialization)导致的晶片背侧 ...
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