技术编号：2811861
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明关于掩膜版制作技术，尤其涉及一种。 背景技术随着集成电路制造工艺的飞速发展，45和32nm技术节点已成为近两年人 们谈论的热点，作为集成电路制造工艺中最关键的光刻工艺首当其冲成为热点 中的焦点。浸入式光刻(Immersion)、两次曝光技术(Double Patterning)、超紫外 光刻(EUV)获得广泛的应用，而掩膜版制作技术是光刻工艺三要素之一。掩膜 版如同投影用的电影胶片的底片 一样，它的技术水平直接影响着光刻技术的发 展。随着工艺节点的不...
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