技术编号：2815109
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型是有关于一种光罩盒，特别是有关于一种具有限制件 的光罩盒。背景技术近代半导体科技发展迅速，其中光学微影技术(Optical Lithography)扮演重要的角色，只要是关于图形(pattern)定义，皆需 仰赖光学微影技术。光学微影技术在半导体的应用上，是将设计好的 线路制作成具有特定形状可透光的光罩(photo mask)。利用曝光原 理，则光源通过光罩投影至硅晶圆(silicon wafer)可曝光显示特定图 案。由于任何附着于光罩上的尘埃...
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