技术编号：2815268
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型是有关于一种光罩盒，特别是有关于一种具有枢纽装置的 光罩盒。背景技术近代半导体科技发展迅速，其中光学微影技术(Optical Lithogmphy)扮 演重要的角色，只要是关于图形(pattem)定义，皆需仰赖光学微影技术。 光学微影技术在半导体的应用上，是将设计好的线路制作成具有特定形状 可透光的光罩(photomask)。利用曝光原理，则光源通过光罩投影至硅晶圆 (silicon wafer)可曝光显示特定图案。由于任何在光罩上的微小损伤都会...
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