用于光刻蚀法的组合物和防反射涂层的制作方法技术资料下载

技术编号:2815587

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本发明涉及用于微电子应用的组合物,特别是涉及用于微电子应用的底部防反射涂层(或“BARCs”)。在微电子工业中,持续需要具有较小和更为限定的图案的微芯片。现在这些发展面临的问题包括形成的光致抗蚀剂外形的劣化(这是由于在光致抗蚀剂层和基底的界面上的反射造成的),和需要适应较短暴露波长并且具有足够的耐蚀刻性的薄抗蚀剂层。防反射涂层可以用于解决以上问题。制造防反射涂层的一种方法是通过化学气相沉积(CVD),这是昂贵的方法。需要简化光刻法(lithography)...
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