技术编号：2816242
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于光刻的分辨率增强技术，更具体地，涉及一种用 于基于模型的光刻引导的布局的系统和方法。背景技术例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下， 掩模可以包含对应于所述IC的单层的电路图案，并且可以将该图案成像 到己经涂覆了一层辐射敏感材料(抗蚀剂)的衬底(硅晶片)上的目标部 分(例如，包括一个或多个管芯)上。通常，单个晶片将包含相邻目标部 分的整个网络，所述相邻目标部分通过投影系统被一次一个地连续辐射。 在一种类型的光刻投影...
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