技术编号：2816798
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及制作灰调掩模的方法，该掩模具有获得的透光性居于遮光部分和透光部分之间的中间量的灰调部分。背景技术 近年来，在大型LCD掩模领域制作薄膜晶体管(TFT)的工艺中，尝试采用灰调掩模减少掩模片数(如月刊FPD Intelligence，1999年5月所阐明)。如图8A所示，这种灰调掩模有遮光部分1，透光部分2和灰调部分3。灰调部分3相当于一个区域，其中形成了低于或等于采用灰调掩模的大型LCD所用的曝光装置分辨率极限的遮光图形3a，并通过减小透过该区域的...
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