技术编号：2817201
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明的领域包括用于光学平版印刷的基于全受体(peraceptor)取代的芳族阴 离子的离子、有机光致产酸剂(PAG)。发明背景和相关现有技术在半导体制造领域中，光学平版印刷是图案化半导体器件所使用的主流方法。在 典型的现有技术的光学平版印刷方法中，通过确定特定电路图案的掩模将UV光投射在用 光敏抗蚀剂(光致抗蚀剂)涂布的硅片上。暴露于UV光下接着随后烘烤，诱导光化学反应， 所述光化学反应将改变光致抗蚀剂的曝光区域的溶解度。其后，合适的显影剂，通常碱性水 ...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。