技术编号：2817741
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及制造电子装置—诸如半导体装置、液晶显示装置、成像装置(电荷耦合装置等)以及薄膜磁头-时所使用的曝光设备，并且还涉及装置制造方法。背景技术在通过光刻工艺制造电子装置-诸如半导体装置和液晶显示装置-时，使用投影掩模或标线片(下文通称为标线片)的图案图像的投影膝光设备，其中图案是通过投影光学系统在涂有感光材料(抗蚀剂)的衬底上的各投影(拍摄(shot))区上形成的。通过将衬底用上述投影膝光设备曝光并然后执行后处理，使得电路图案被转移到将被爆光的衬底上，...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。