技术编号：2817819
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及抗蚀剂添加剂及包含该添加剂的抗蚀剂组合物，该添加剂改善抗蚀剂膜表面的疏水性以防止在浸没式光刻工艺过程中抗蚀剂膜中的材料在水中被浸出，并且形成具有优异的敏感度和高分辨率的抗蚀剂膜微图案。背景技术随着近年来大规模集成电路(LSI)具有更高的集成度和更高的速度，需要光致抗蚀剂的准确微图案化。作为形成抗蚀图案中所用的曝光光源，来自汞灯的g_线(436nm)或1-线(365nm)已被广泛使用。然而，由于通过调节曝光波长所获得的分辨率改进接近物理极限，所以使...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。