技术编号：2817828
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光刻机硅片台双台交换系统，该系统应用于半导体光刻机中，属于浸没式光刻。背景技术浸没式光刻技术的(immersion lithography)概念最早在上世纪80年代提出，即在光刻机的投影镜头和基片之间填充浸没液体，代替原来的空气空间，以提高分辨率。其依据的Rayleigh计算公式如下权利要求1.带有浸液回收装置和激光干涉仪的硅片台双台交换系统，该系统含有基座(7)，两个硅片台，两个线缆台，光学透镜系统(2)和光刻浸液喷射循环装置(3)，所述的...
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