技术编号：2818367
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种投影曝光设备的自动调焦控制系统，具体涉及一种用于调焦调平的光学系统。背景技术投影光刻机是一种把掩模上的图案通过物镜投影到硅片面上的装置。在投影曝光设备中，必须有自动调焦控制系统把硅片面精确带入到指定的曝光位置，实现该系统有多种不同的技术方案。目前比较常用是非接触式光电测量技术，其中NIK0N、 CAN0N、 ASML的调焦技术最具代表性。以上公司的方案各具特色，其共同点是测量系统中光学部分都采用了满足Schei卿flug条件(即倾斜的物成倾斜...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。