技术编号：2818371
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。用于^光刻的照明光学系统本发明涉及微光刻领域，更具体的说，是涉及微光刻法设备中的一套照明 光学系统。背景技术现有光刻法中采用高压汞灯照明的光学系统，主要对g (436nm) h ( 405nm ) i (365nm)三线进行曝光，在涂有光刻胶的硅片上得到一定的光刻胶图形，再 通过刻蚀等步骤使硅片上得到同样的光刻胶图形。根据不同的曝光要求，硅片面上有时需要不同的曝光视场，数值孔径或相 干因子。现有的技术主要是将照明系统的聚光透镜或中继透镜用变焦透镜组来替 代...
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