技术编号：2818386
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光刻曝光系统，且特别涉及光刻曝光系统中的。背景技术在光刻曝光系统中，对图像质量起关键作用的两个因素是分辨率和焦深。所以既要获得更好的分辨率来形成关键尺寸的图形，又要保持合适的焦深。离轴照明技术可以提高焦深并且提高了分辨率。当今先进的光刻工艺要求使用离轴照明技术，包括环形照明、双极照明、四才及照明等。通过合理的选择与曝光图案相匹配的光瞳形貌可以最大限度的提高工艺窗口 ，这就要求照明系统具有可调节的光瞳形貌。光刻照明系统通过DOE (Diffra...
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