技术编号:28427832
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及太阳能电池制造技术领域,尤其涉及一种带有硅片支撑块的太阳能电池载板。背景技术.载板承载着硅片进入pecvd腔室进行非晶硅薄膜沉积。硅片在腔室内快速升温,使得硅片在短时间内达到工艺所需温度,是决定pecvd镀膜沉积效率的先决条件。硅片内各个点的温度、膜层厚度的均匀性以及镀膜时避免绕镀是决定电池片性能高低的关键因素。.硅片的升温速率、镀膜均匀性、不绕镀与pecvd的载板密切相关,传统的载板结构有全实心结构和全镂空结构,全实心结构一般为硅片与载板全面积接触,达到硅片与载板同步加热...
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