技术编号：2849574
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于衬底处理室的处理配件和靶材。背景技术在处理诸如半导体晶圆和显示器的衬底的过程中，将衬底放置在处理室中并设定处理室中的处理条件以在该衬底上沉积或者蚀刻材料。典型的处理室包括多个室部件，所述多个室部件包括包围处理区的围墙壁、用于在室内提供气体的气源、对处理气体施加能量以处理衬底的激发器、用于保持衬底的衬底支架，以及去除废气并保持室内气压的排气装置。该室可以包括CVD、PVD和蚀刻室。在PVD室中，溅射靶材以促使靶材料沉积在与靶材相对的衬底上。在溅...
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